高致密度FeNi纳米颗粒薄膜制备与性能研究

• 作者: 欧修龙 龚承燚 王绍明 王国强
• 来源期刊: 功能材料
• 关键词: 纳米颗粒薄膜 磁性能 电场辅助沉积 薄膜结构
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 研究·开发|Research & Development
• 页码范围: 4120-4125
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2021.04.018

摘要

传统磁控溅射装置制备的纳米颗粒薄膜粒径不均一并且实现粒径大小调控比较困难.本研究采用电场辅助沉积技术,在沉积平台施加5～30 kV的电场,以Si(100)为衬底制备了一系列纳米颗粒粒径均一的高致密度FeNi纳米颗粒薄膜材料.通过XRD、SEM以及VSM测量,研究了不同沉积电场下FeNi纳米颗粒薄膜的结构、形貌和磁性能.利用单端口短路微带线法对0.5～5.5 GHz范围内的微波磁谱进行表征.实验结果表明:沉积电场越大,纳米颗粒粒径均一且薄膜的致密度越高,越有利于薄膜综合磁性能的改善和饱和磁化强度增大.薄膜材料微波磁谱表明,电场辅助沉积技术制备的软磁薄膜材料能够在GHz频段得到广泛应用.