电弧离子镀工艺参数对Cr涂层沉积及性能的影响

• 作者: 杨红艳 韦天国 张瑞谦 王昱 陈寰
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 Cr涂层 工艺参数 沉积速率 协同变形 高温氧化
• 年，卷（期）: 2021,（12）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 97-103
• 页数: 7页
• 分类号: TL214+.6
• 语种: 中文

摘要

为研究工艺参数对Cr涂层沉积及性能的影响,采用多孤离子镀技术在Zr-4合金表面制备Cr涂层,利用正交试验设计合理的孤电流、偏压、气压试验条件表,重点分析了工艺参数对Cr涂层质量、沉积速率及性能的影响.利用室温拉伸试验测试涂层的膜基协同变形能力,利用1000℃、60 min空气中氧化试验测试Cr涂层的耐高温氧化性能.结果 表明:Cr涂层主要以沿锆基体法向择优生长的柱状晶为主,气压对Cr涂层的沉积速率影响最大,孤电流对室温拉伸后涂层表面线状撕裂密度的影响最明显,偏压对Cr涂层的表面粗糙度和耐高温氧化性能影响最大.因此,设计合理的工艺参数,可获得综合性能优异的Cr涂层.