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等离子体应用技术快报1996年出版文献
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等离子体应用技术快报
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核工业西南物理研究院
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61. 等离子体离子注入技术的进展刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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63. 反应性溅射法制备CuInS2薄膜刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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64. 计算机控制的可变等离子体溅射源刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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66. 非平衡单磁控管沉积系统刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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67. 蚀刻用等离子体的参数控制刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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68. 溅射沉积的最新进展刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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70. 不锈钢等离子体氮化的结构和性能刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年6期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年7期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年7期页码:摘要：
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74. 钨铬钴硬质合金的等离子体扩散处理刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年7期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年7期页码:摘要：
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77. 可引出低能离子的小型微波离子源刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年7期页码:摘要：
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80. 氧化锆基热屏膜中内连孔隙的减少刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年7期页码:摘要：
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刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年8期页码:摘要：
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84. 用rf偏压溅射法制备c—BN膜刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年8期页码:摘要：
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87. ZDP—1700型VPS设备刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年8期页码:摘要：
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88. 用多价离子进行原子层蚀刻刊名： 等离子体应用技术快报发表期刊： 1996年8期页码:摘要：
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等离子体应用技术快报基本信息
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| 主办单位 | 核工业西南物理研究院 | 主管单位 | |
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