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化学气相沉积法制备SiC/SiO2梯度复合涂层的热力学分析
SiC/SiO2复合涂层
化学气相沉积
热力学分析
利用SiCl4/Ar/H2气体ICP干法刻蚀GaAs材料
GaAs
干法刻蚀
电感耦合等离子体
SiCl4
光滑表面
SiCl4/H2为气源低温沉积多晶硅薄膜光电特性的研究
多晶硅薄膜
持续性光电导
晶化率
溶胶-凝胶法制备RDX/SiO2膜
应用化学
溶胶-凝胶法
RDX
炸药薄膜
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 用SiCl4及间接PECVD法在低温下快速沉积SiO2膜
来源期刊 等离子体应用技术快报 学科 工学
关键词 PECVD 二氧化硅 薄膜生长
年,卷(期) 1996,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 5-6
页数 2页 分类号 TN304.055
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PECVD
二氧化硅
薄膜生长
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等离子体应用技术快报
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