PECVD法玻璃容器内壁沉积SiO2薄膜的SEM表征

• 作者: 叶欢 吕建国 吕斌 张金云 朱恒伟 李文杰 陈国安
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD 玻璃容器 内壁镀膜 SiO2薄膜 SEM表征
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 666-670
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2015.05.009

摘要

采用自主研制的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)专用设备,在玻璃容器内壁沉积SiO2薄膜,用作阻隔涂层.通过设计沉积工艺,在不同的气体流量比例、工作气压和生长时间等生长条件下制备出SiO2薄膜;通过扫描电子显微镜(SEM)测试表征薄膜的形貌和结构,评价薄膜的性能.根据表征结果分析了各种工艺参数对薄膜性能的影响,获得了较为优化的工艺参数,在玻璃容器内壁制备出较高质量的SiO2薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕建国	浙江大学材料科学与工程学院	35	769	12.0	27.0
2	吕斌	浙江大学材料科学与工程学院	10	33	3.0	5.0
3	叶欢		3	6	2.0	2.0
4	张金云		2	3	1.0	1.0
5	李文杰	浙江大学材料科学与工程学院	3	57	2.0	3.0
6	朱恒伟	浙江大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0
7	陈国安		1	3	1.0	1.0