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申请人：电子科技大学
公开时间：2010-10-27
摘要:
本发明公开了一种具有缓和坡度的牺牲层结构的制备方法，该方法通过多次掩膜曝光实现牺牲层图形的制作，使得制备出牺牲层侧壁具有缓和的斜坡形状。该具有斜坡结构的牺牲层能克服现有技术中的缺陷，既保证了桥结构高落差下的稳定电学连通，降低桥腿爬坡过程中的急剧高度变化引起的桥面形变，又简化了制备工艺流程，为高性能红外辐射阵列探测器提供了有力支持。
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