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CVD法与PCVD法TiN薄膜研究
CVD法
PCVD法
薄膜
直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层设备的研制
化学气相沉积
等离子体炬
金刚石膜
等离子体增强化学气相沉积系统的温度控制研究
PECVD
温度控制
可编程控制器
触摸屏
冗余设计
多孔发射药等离子体增强燃速
爆炸力学
瞬态燃速
密闭爆发器
固体发射药
等离子体
电热化学发射
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 反应气体成份对增强等离子体CVD法沉积TiN的影响
来源期刊 四川真空 学科 工学
关键词 反应气体成分 等离子体 CVD TIN
年,卷(期) 1989,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 35-44
页数 4页 分类号 TB43
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DOI
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1989(0)
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研究主题发展历程
节点文献
反应气体成分
等离子体
CVD
TIN
研究起点
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期刊影响力
四川真空
半年刊
成都市第109信箱207分箱
出版文献量(篇)
395
总下载数(次)
1
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0
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