论文降重
免费查重- 钛学术文献服务平台 \
- 学术期刊 \
- 综合期刊 \
- 其它期刊 \
- 国外核聚变与等离子体应用期刊 \
用SiH4在氮后放电中的反应沉积氮化硅薄膜
推荐文章
射频频率对PECVD沉积氮化硅薄膜性能影响的研究
氮化硅
PECVD
拉曼光谱
应力
富纳米硅氮化硅薄膜光致发光机制
纳米硅
氮化硅薄膜
光致发光
发光机制
氮化硅反应烧结的研究进展
氮化硅陶瓷
反应烧结
高温性能
陶瓷韧性
蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究
磁控反应溅射
蓝宝石
氮化硅薄膜
性能
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
| 篇名 | 用SiH4在氮后放电中的反应沉积氮化硅薄膜 | ||
| 来源期刊 | 国外核聚变与等离子体应用 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 硅烷 放电 氮化硅 薄膜 沉积 | ||
| 年，卷（期） | 1991,（2） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 68-77 | |
| 页数 | 10页 | 分类号 | TN305.8 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
五维指标
引文网络
引文网络
二级参考文献 (0)
共引文献 (0)
参考文献 (0)
节点文献
引证文献 (0)
同被引文献 (0)
二级引证文献 (0)
1991(0)
- 参考文献(0)
- 二级参考文献(0)
- 引证文献(0)
- 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
硅烷
放电
氮化硅
薄膜
沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
期刊文献
相关文献
推荐文献
- 期刊分类
- 期刊（年）
- 期刊（期）
- 期刊推荐
