用PCVD法制备（TiA1）N膜的研究

• 作者: 彭红瑞 赵程
• 来源期刊: 薄膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体化学气相沉积 (TiAl)N膜 薄膜
• 年，卷（期）: 1991,（4）
• 页码范围: 63-69
• 页数: 7页
• 分类号: TN304.055

摘要

本文报道了在PCVD设备中用固态AlCl3源成功地制备出（TiAl)N膜。结果表明，（TiAl)膜的含Al量与AlCl3源的温度成正比，而膜内C含量则无明显变化。（TiAl)N膜保持了TiN膜的面心立方晶体结构，但其d(200)晶面间距变小，织构变弱，晶粒略有细化，（TiAl)N膜的显微硬度略高于或等于TiN膜的硬度，而其抗高温氧化性有较大幅度提高。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭红瑞	青岛化工学院固体薄膜研究室	13	128	6.0	11.0
2	赵程	青岛化工学院固体薄膜研究室	11	132	5.0	11.0