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摘要:
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半导体行业超纯水制造技术
半导体
超纯水
节能减排
VLSI用超纯水制备系统设计中的一些重点问题
超大规模集成电路
两级反渗透
电连续去离子
脱氧膜组
抛光混床
浅析某微电子产业园制造厂房超纯水处理系统案例
纯水系统
RO反渗透
UF超滤
EDI除盐
系统调试
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 VLSI制造工艺对超纯水质量的要求
来源期刊 电子材料(机电部) 学科 工学
关键词 VLSI 工艺 纯水 质量
年,卷(期) 1992,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 20-21
页数 2页 分类号 TN47
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DOI
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1992(0)
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研究主题发展历程
节点文献
VLSI
工艺
纯水
质量
研究起点
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期刊影响力
电子材料(机电部)
月刊
北京750信箱21分箱
出版文献量(篇)
356
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2
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