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聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究
聚焦重离子束溅射
同位素靶
均匀性
材料利用率
离子束辅助沉积制备的铁锆多层膜中的相演化
离子束辅助沉积
非晶薄膜
铁-锆合金
脉冲离子束轰击靶的热效应数值模拟
脉冲离子束
数值模拟
离子束增强沉积技术
离子束增强
铜膜
离子源
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 多靶离子束溅射制备二元合金调制膜
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 离子束 溅射 调制膜
年,卷(期) 1993,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 156-163
页数 8页 分类号 TN304.105
字数 语种
DOI
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1993(0)
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研究主题发展历程
节点文献
离子束
溅射
调制膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
总下载数(次)
1
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0
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