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基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统
磁控溅射
真空镀膜
串口通信
LabVIEW
用于双离子束注入器的杂质消除系统
注入器
双离子束
杂质
聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究
聚焦重离子束溅射
同位素靶
均匀性
材料利用率
用单片机控制卷绕式真空镀膜机
镀膜机
单片机
继电控制
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 四靶双离子束溅射镀膜机
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 四靶 双离子束 溅射 镀膜机
年,卷(期) 1993,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 170-171
页数 2页 分类号 TN304.05
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1993(0)
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研究主题发展历程
节点文献
四靶
双离子束
溅射
镀膜机
研究起点
研究来源
研究分支
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期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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