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基于响应面法的磁记录写场分析
垂直磁记录
磁记录写头
响应面法
瓦片式磁记录
垂直磁记录薄膜实施剩余磁化测量时退磁场的补偿
退磁场补偿
直流退磁剩磁(DCD)
等温剩磁(IRM)
ΔM曲线
电子束直写模版电沉积制备图案化磁记录介质
图案化磁记录介质
电子束直写光刻
电沉积
不均匀
垂直磁记录薄膜退磁场修正及Delta-M 曲线测量方法
垂直磁记录薄膜
Delta-M曲线
退磁场修正
等温剩磁曲线
直流退磁剩磁曲线
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 垂直磁记录CoCr薄膜取向特性分析
来源期刊 电子计算机外部设备 学科 工学
关键词 垂直磁记录 取向 特性分析
年,卷(期) 1994,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 49-52
页数 4页 分类号 TQ581
字数 语种 中文
DOI
五维指标
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1994(0)
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研究主题发展历程
节点文献
垂直磁记录
取向
特性分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子计算机外部设备
月刊
CN 33-1123/TP
机电部杭州第五十二研究所
出版文献量(篇)
799
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3
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0
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