软X光激光Sn衰减膜的制备及测量

• 作者: 乔轶 吴广明 张力 汤学峰 祁金林 童宏勇 陈玲燕 顾牡
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: Sn衰减膜 质量厚度 表面均匀性 表面氧化
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 第六届全国核靶技术交流会论文选
• 页码范围: 340-342
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.1999.04.014

摘要

采用磁控溅射方法制备了Sn衰减膜.应用真空α能谱测厚仪和α-step 100台阶仪分别测得Sn衰减膜的质量厚度为450.3 μg/cm2,表面不均匀性＜3 %.质量厚度和表面均匀性的测试结果均符合软X光激光实验的要求.利用俄歇电子能谱对Sn膜表面杂质及表面氧化情况并结合Ar离子束刻蚀对氧含量深度分布情况进行了分析.分析结果表明:Sn膜暴露在空气中而氧化生成一定厚度的氧化层,其主要成分是SnO2和Sn2O3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾牡	同济大学波耳固体物理研究所	76	433	13.0	16.0
2	陈玲燕	同济大学波耳固体物理研究所	60	522	13.0	19.0
3	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
4	张力	同济大学波耳固体物理研究所	19	240	11.0	15.0
5	汤学峰	同济大学波耳固体物理研究所	7	47	3.0	6.0
6	乔轶	同济大学波耳固体物理研究所	4	5	1.0	2.0
7	童宏勇	同济大学波耳固体物理研究所	2	19	1.0	2.0
8	祁金林	同济大学波耳固体物理研究所	2	2	1.0	1.0