软X光激光In衰减膜的制备及测量

• 作者: 吴广明 汤学峰 陈玲燕 顾牡
• 来源期刊: 同济大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: In衰减膜 α能谱测厚仪 俄歇电子谱
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 312-315
• 页数: 4页
• 分类号: TB48
• 字数: 2722字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-374X.2000.03.013

摘要

通过对制备工艺的摸索,制备出用于软X光激光实验的In衰减膜;利用α能谱测厚仪对In衰减膜的质量厚度进行了测量;通过俄歇电子谱并结合Ar离子刻蚀对In膜表面氧化及氧元素质量分数的深度分布进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾牡	同济大学玻耳固体物理研究所	76	433	13.0	16.0
2	陈玲燕	同济大学玻耳固体物理研究所	60	522	13.0	19.0
3	吴广明	同济大学玻耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
4	汤学峰	同济大学玻耳固体物理研究所	7	47	3.0	6.0