电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌

• 作者: 周绍民 曹刚敏 杨防祖 解建云 许书楷 郑雪清
• 来源期刊: 厦门大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: Ni-W合金 电沉积层 结构 形态
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 所属期刊栏目: 化学·化工
• 页码范围: 56-60
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 2607字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-0479.1999.01.012

摘要

采用分光光度法、X射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中,电流密度影响下所获得的Ni-W合金电沉积层的组成、结构和表面形态.结果表明,随着电流密度的提高,合金沉积层中的W含量增大;形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大、晶格畸变度增大、而显微晶粒尺寸减小;合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征.讨论了上述实验结果.