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热处理对MIM薄膜二极管Ta2O5绝缘膜微结构及其I-U特性的影响
热处理对MIM薄膜二极管Ta2O5绝缘膜微结构及其I-U特性的影响
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摘要：
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热处理对离子束溅射Ta2O5薄膜特性的影响
离子束溅射
Ta2O5薄膜
退火温度
光学常数
薄膜折射率
场发射FED器件MIM结构Ta-Ta2O5-Al薄膜的制备及性能
阳极氧化
Ta2O5薄膜
MIM结构
非晶态
Ta2O5/Si薄膜界面结构及光催化活性
Ta2O5/Si薄膜
俄歇电子能谱
界面扩散
界面反应
光催化活性
Ta2O5绝缘层厚度对ZnO基薄膜晶体管器件性能的影响
Ta2O5绝缘层
氧化性薄膜晶体管
磁控溅射
表面形貌
内容分析
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真空科学与技术学报
主办单位：
中国真空学会
出版周期：
月刊
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号：
创刊时间：
1981
语种：
chi
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
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