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用CHF3/Ar为工作气体刻蚀融石英
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摘要：
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利用SiCl4/Ar/H2气体ICP干法刻蚀GaAs材料
GaAs
干法刻蚀
电感耦合等离子体
SiCl4
光滑表面
CHF3及其混合气体放电特性的试验研究
CHF3
SF6
气体放电
绝缘性能
DMCPS/CHF3制备的F-SiCOH低k薄膜结构与沉积速率研究
低介电常数
SiCOH薄膜
氟掺杂
不同CHF3/CH4流量比下沉积a-C:F:H薄膜键结构的红外分析
a-C:F:H薄膜
傅里叶变换红外光谱
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期刊影响力
光学精密工程
主办单位：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期：
月刊
ISSN：
1004-924X
CN：
22-1198/TH
开本：
大16开
出版地：
长春市东南湖大路3888号
邮发代号：
12-166
创刊时间：
1959
语种：
chi
出版文献量（篇）
6867
总下载数（次）
10
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98767
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