晶体生长过程中的抗干扰技术探讨

• 作者: 梁秀梅
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 晶体 抗干扰技术 光电隔离 整形处理 容错纠错技术
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 新设备·新机构
• 页码范围: 46-49
• 页数: 4页
• 分类号: TF806.9
• 字数: 2266字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2000.04.010

摘要

针对晶体生长过程中所遇到的几种干扰,提出了在晶体生长设备设计和制造中需要注意的几个问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁秀梅		11	65	6.0	7.0