正电子湮灭术在测量金刚石膜空位型缺陷中的应用

• 作者: 廖克俊 方亮 王万录 郭忠诚 陈星明
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 正电子湮灭 空位 缺陷
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 30-32
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 2908字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2000.06.015

摘要

对正电子湮灭术(PAS)应用于金刚石薄膜中检测空位型缺陷的研究现状进行了综述,对由正电子寿命谱、多普勒宽化因子等数据得到空位型缺陷的浓度与大小等信息的方法进行了归纳与总结,并对正电子技术研究金刚石膜缺陷尚需注意的一些问题进行了初步分析讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王万录	重庆大学理学院应用物理系	109	849	16.0	22.0
2	廖克俊	重庆大学理学院应用物理系	66	513	12.0	19.0
3	方亮	重庆大学理学院应用物理系	62	513	12.0	18.0
4	陈星明	重庆大学机械学院制造工程研究所	4	295	3.0	4.0
5	郭忠诚	重庆大学理学院应用物理系	3	24	1.0	3.0