离子束增强沉积界面共混工艺对Cr-N镀层结合强度的影响

• 作者: 唐宾 李咏梅 胡奈赛
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束增强沉积 CrN 膜层--基体结合强度
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 740-746
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 4098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2000.04.028

摘要

采用连续压入法以及球滚接触疲劳法评定不同界面共混工艺所制Cr-N镀层膜基结合强度，并对两种方法试验结果进行分析对比.试验结果表明，在其它参数相同条件下，随着氮离子轰击能量从10、20keV提高到40keV，动反冲共混界面结合强度则有明显降低的趋势，Pc值测量值分别为650、700、330N.当轰击能量为20、10keV时，Cr-N镀层在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次达到5.0106时，镀层未剥落，表现出很高的动态结合强度,而40keV动反冲共混界面在Δτrz=442MPa时，循环疲劳周次仅为9.0105.较低能量(10、20keV)氮离子动态共混界面具有更理想的膜层--基体结合强度.两种方法测试结果具有一致性.当膜层--基体结合力较高时，压入法评定膜层--基体结合强度更简便、适用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐宾	太原理工大学表面工程研究所	121	953	15.0	23.0
2	李咏梅	太原理工大学表面工程研究所	9	45	2.0	6.0
3	胡奈赛	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	17	245	7.0	15.0