H2及H+对CxH1-x薄膜表面状态的影响

• 作者: 吴卫东 唐永建 张占文 罗江山 许华 赵纯培 郑永铭 陆晓明 陈红 黄勇
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: CxH1-x薄膜 悬挂键密度 局域化 ICF靶涂层技术
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 593-596
• 页数: 4页
• 分类号: TL639.11
• 字数: 2004字
• 语种: 中文

摘要

系统研究了H2流量和H+原位处理CxH1-x薄膜的时间对CxH1-x薄膜的稳定时间、表面悬挂键密度和表面电子局域化程度的影响,表明CxH1-x薄膜的长时间H+原位处理是减小CxH1-x薄膜表面悬挂键密度的有效途径.