α-CxNy:H1-x-y薄膜的制备和光学性能分析

• 作者: 吴卫东 李建根 马婷婷
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法 α-CxNy:H1-x-y薄膜 沉积速率 形貌 光学特性
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 1517-1521
• 分类号: O481.1
• 语种: 中文

摘要

采用外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/H2作为反应气体,制备非晶α-CxNy:H1-x-y薄膜.研究了薄膜沉积速率和入射功率之间的关系,随着功率增大,薄膜沉积速率先增大后减小;SEM图像表明薄膜无层状、柱状结构;AFM图像表明薄膜粗糙度在0.2～0.3 nm之间;傅里叶红外光谱(FTIR)显示了薄膜的成键情况;紫外-可见-近红外光谱表明,随着入射功率的增大,薄膜的光学带隙逐渐减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴卫东	西南科技大学理学院	140	1087	18.0	26.0
3	马婷婷	西南科技大学理学院	18	20	2.0	4.0
5	李建根	西南科技大学理学院	1	1	1.0	1.0