锡磨盘定偏心平面研抛中材料去除模拟

• 作者: 张红霞 曹建林 殷伯华 高宏刚
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 工学
• 关键词: 锡 抛光 超精密抛光 平面 模拟计算
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究通讯和短文
• 页码范围: 83-85
• 页数: 3页
• 分类号: TH7
• 字数: 2537字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3087.2000.01.024

摘要

本文使用超精密平面研磨机及锡磨盘进行超光滑表面的抛光研究.平面抛光中,锡磨盘表面的形貌和加工状况直接影响被加工工件的表面平面度.本文基于Preston方程,建立了在定偏心抛光条件下,被加工材料的去除模型.针对锡盘开有同心圆等沟槽的表面加工状况,提出了一种计算材料有效去除的算法,计算了工件的表面去除误差,对抛光后工件表面形貌提出理论预测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹建林	中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室	2	16	2.0	2.0
2	高宏刚	中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室	4	172	4.0	4.0
3	张红霞		1	12	1.0	1.0
4	殷伯华		1	12	1.0	1.0