基于最大熵原理的平面研抛工艺参数优化

• 作者: 周旭升 李圣怡 郑子文
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 最大熵原理 平面研抛 材料去除 运动熵
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 科学基金
• 页码范围: 1001-1004
• 页数: 4页
• 分类号: TH161|TG580.692
• 字数: 3143字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.11.015

摘要

提高光学零件研抛加工精度的关键是优选工艺参数.对此提出一种基于最大熵原理的平面研抛工艺参数优化方法.建立了工件研抛信息熵的数学表达式并给出了相关的物理解释,并对定偏心平面研抛工艺参数优选进行了数值模拟计算.研究结果表明,在定偏心平面研抛中,选择工件与研抛盘同方向等速转动可以使工件表面材料去除均匀,选择较大的偏心率可以提高加工效率,同时应实时修整研抛盘以减小研抛盘磨损对工件加工精度的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李圣怡		77	1079	17.0	30.0
2	郑子文		18	195	8.0	13.0
3	周旭升		5	107	4.0	5.0