镀膜锰铜压阻计结晶问题研究

• 作者: 周鸿仁 施尚春 董石 黄跃
• 来源期刊: 高压物理学报
• 关键词: 镀膜锰铜计 晶粒度 电阻率 压阻系数
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 254-258
• 页数: 5页
• 分类号: O521+.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5773.2001.04.003

摘要

用磁控溅射低温沉积镀膜技术制做锰铜薄膜,能够保持薄膜中锰、铜、镍成份的相对稳定和锰铜合金正六面三元固溶体金相结构的特性.但是,锰铜镀膜的结晶晶粒度与工业生产的锰铜合金还有较大差别,宏观物理量表现为:电阻率偏高,冲击压阻系数偏小.真空加热到673K对锰铜镀膜进行热处理1h,可以使晶粒尺寸平均增加约20%,电阻率减小一半,0～80GPa冲击波加载动态标定实验显示:压阻系数增加到2.0～2.6 (10-2/GPa),接近轧制薄箔锰铜计的水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周鸿仁		1	6	1.0	1.0