氮化硅窗口在大气环境软X射线接触成像中的应用研究

• 作者: 傅绍军 徐向东 洪义麟 蒋诗平 陶晓明 霍同林
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 软X射线 线性吸收系数 接触成像 氮化硅窗口
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: O434.14
• 字数: 2405字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2001.01.012

摘要

成功地研制了将软X射线引入大气中的氮化硅窗口。根据具体数据，对大气环境下软X射线接触成像的水窗软X射线衰减进行了估算；给出成像实验结果并观察到了氮化硅膜上的微粒图像叠加在样品图像上的现象。所得结果与理论估算相一致。即使用3.2 nm的软X射线时，同一样品在大气环境中所需的曝光量约为真空中的两倍。这些结果将十分有益于大气环境下的软X射线接触显微术及软X射线扫描透射显微术的研究。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东		74	701	15.0	21.0
2	洪义麟		56	478	13.0	19.0
3	霍同林		33	178	9.0	12.0
4	陶晓明		9	102	5.0	9.0
5	蒋诗平		50	248	9.0	12.0
6	傅绍军		13	227	9.0	13.0