双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术

• 作者: 张家良 徐军 邓新绿 陆文棋 马腾才
• 来源期刊: 大连理工大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 放电特性 氮化碳膜/等离子体源
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 数学物理力学
• 页码范围: 275-278
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O461.2
• 字数: 1775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-8608.2001.03.006

摘要

因其设备简单、沉积速率高等特点,磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中.但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物、氮化物膜时,为了得到化学配比的膜层,薄膜生长表面的反应激活基团、离子等的密度必须足够大.为此对原有的微波-ECR等离子体源进行了改造.研究了双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射的放电特性,并用该方法制备了氮化碳膜.结果表明:该方法是一种有效的制备化合物薄膜的技术;用该方法制备的氮化碳膜,化学成分接近化学配比.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张家良		33	282	9.0	16.0
2	邓新绿		28	356	9.0	17.0
3	马腾才		81	688	15.0	21.0
4	徐军		51	346	11.0	14.0
5	陆文棋		1	24	1.0	1.0