电化学抛光用于光刻工艺的研究

• 作者: 吉华 董宗玉 陈匡民
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 光化学蚀刻 电化学抛光 电解加工
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 机械加工与自动化
• 页码范围: 14-15
• 页数: 2页
• 分类号: TG66
• 字数: 1479字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5311.2001.01.006

摘要

研究了光化学蚀刻与电化学抛光相结合的加工工艺，讨论了加工过程中各种因素对加工的影响及加工工艺的适用场合。试验结果表明电流密度、加工时间是控制加工深度的关键因数；抛光液温度对加工深度影响不明显，应控制在产生良好表面质量的范围内。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董宗玉		11	138	6.0	11.0
2	陈匡民		14	106	6.0	10.0
3	吉华		52	277	9.0	14.0