掺杂纳米硅薄膜微结构的研究

• 作者: 徐刚毅 王天民 王金良
• 来源期刊: 自然科学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子增强化学气相沉积 掺杂纳米硅薄膜 微结构
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 博士后研究
• 页码范围: 330-336
• 页数: 7页
• 分类号: TB383
• 字数: 4721字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-008X.2001.03.020

摘要

采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法成功地沉积出掺杂(主要是磷、硼)纳米硅(nc-Si:H)薄膜.利用高分辨电子显微镜(HREM)、Raman散射、X射线衍射(XRD)、Auger电子谱(AES)和共振核反应(RNR)等手段对掺入不同杂质后的纳米硅薄膜的微结构进行了系统的研究.实验结果表明,随着掺磷浓度的增加,掺杂纳米硅薄膜的晶粒尺寸减小,晶态比和晶粒密度增加.而随着掺硼浓度的增加,掺杂纳米硅薄膜的晶粒尺寸没有变化,晶态比减小,掺硼浓度达到一定程度时,则变成了非晶硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王天民	北京航空航天大学理学院	140	1545	22.0	32.0
2	王金良	北京航空航天大学理学院	24	125	7.0	10.0
3	徐刚毅	北京航空航天大学理学院	2	18	1.0	2.0