氮化硼光电薄膜材料的制备及其性能研究

• 作者: 张溪文 杜丕一 沈鸽 祁英昆 翁文剑 董博 赵高凌 郝天亮 韩高荣
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硼 热丝辅助等离子体增强化学气相沉积 紫外吸收 衬底预处理
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 510-512,540
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2394字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2002.04.011

摘要

本文通过热丝辅助等离子体增强化学气相沉积法(HF-PECVD)在单晶硅片和石英片衬底上分别成功生长了氮化硼薄膜材料.用X射线衍射(XRD和傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析了薄膜样品的结构和组成,用扫描电镜(SEM)观察了薄膜样品的表面形态,用紫外一可见光分光光度计(UV)研究了薄膜样品的紫外吸收特征,并确认薄膜样品的光学能隙.此外,本文还探讨了衬底的超声预处理在薄膜材料生长中所起的作用.