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摘要:
采用真空磁过滤电弧离子镀方法,在GT35基体上沉积类金刚石膜.通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究,制定出了合理的工艺路线,并对这种膜层进行了X-射线光电子谱(XPS)分析,利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测.结果表明,采用此种方法制备的类金刚石膜层,SP3含量约为40.1%;组织致密,无大的颗粒;镀膜后的粗糙度可以达到0.015 μm;纳米硬度约为55 GPa.并将膜层与TiN膜层组成摩擦副,进行了耐磨性试验,结果表明膜层的耐磨性较好.
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文献信息
篇名 真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究
来源期刊 宇航材料工艺 学科 工学
关键词 真空磁过滤电弧离子镀 类金刚石 耐磨性
年,卷(期) 2002,(6) 所属期刊栏目 工程实践
研究方向 页码范围 52-54
页数 3页 分类号 TQ153
字数 1515字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2330.2002.06.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张泰华 中国科学院力学研究所非线性力学国家重点实验室 39 1013 14.0 31.0
2 王秀兰 6 69 5.0 6.0
3 刘文言 7 83 4.0 7.0
4 刘洪源 2 6 1.0 2.0
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研究主题发展历程
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真空磁过滤电弧离子镀
类金刚石
耐磨性
研究起点
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期刊影响力
宇航材料工艺
双月刊
1007-2330
11-1824/V
大16开
北京9200信箱73分箱
1971
chi
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2739
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