论位错的稳定存在

• 作者: 程开甲 程漱玉
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 位错 Thomas-Fermi-Dirac-Cheng 极限尺寸
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 81-83
• 页数: 3页
• 分类号: TG113.1
• 字数: 1863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2002.02.001

摘要

阐述了Thomas-Fermi-Dirac-Cheng电子理论的位错形成机制. 通过对系统总能量的分析提出了位错能够存在的判据, 计算给出多种单质材料位错存在的极限尺寸值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程开甲		13	64	5.0	7.0
2	程漱玉		9	28	4.0	5.0