金刚石膜机械和机械-化学抛光

• 作者: 王成勇 陈君 陈春林
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: CVD 金刚石膜 抛光
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 金刚石/制品
• 页码范围: 3-6
• 页数: 4页
• 分类号: TG5
• 字数: 3770字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2002.01.001

摘要

化学气相沉积(CVD)法生成的金刚石膜具有天然金刚石的基本性质,在机械、电子、光学等领域都有着广泛的应用.但CVD金刚石多晶膜表面凹凸不平,表面粗糙度较大,限制了它的广泛应用,因此,金刚石膜的抛光成为必不可少的工艺步骤.但是,金刚石膜的硬度非常高,且厚度薄,整体强度低,易破裂或剥落,抛光难度很大.国内外学者通过实验和研究,提出了多种金刚石膜抛光的理论和方法.本文详细论述了几种典型的机械、化学、机械-化学抛光方法的机理、工艺和特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王成勇	广东工业大学机电工程学院	186	2516	26.0	39.0
2	陈君	广东工业大学机电工程学院	9	65	4.0	8.0
3	陈春林	广东工业大学机电工程学院	5	80	4.0	5.0