CVD金刚石膜的热化学抛光技术

• 作者: 周丽 焦可茹 许立福 黄树涛
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 热化学抛光 扩散 超高速抛光
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 页码范围: 1456-1462
• 页数: 7页
• 分类号: TG175
• 字数: 5384字
• 语种: 中文

摘要

金刚石膜的抛光技术目前已成为影响金刚石膜推广应用的关键技术之一.近年来开发的各种金刚石膜抛光技术都有其各自的优缺点和局限性.基于碳原子扩散的金刚石膜热化学抛光技术因抛光质量好、效率较高、机械损伤小等优点,而具有发展前景.但目前开发的将抛光盘整体加热至高温的热化学抛光方法,存在设备运行复杂、抛光加工成本高等问题.本文综合论述了金刚石膜热化学抛光技术的发展、特点及不同因素对金刚石膜热化学抛光的影响,在此基础上提出了一种稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光新方法.运用扩散理论分析了抛光温度对金刚石膜理论去除率的影响,所得结果与实验较符合.本文提出的超高速抛光方法具有设备简单、可用于金刚石膜的精密抛光等优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周丽	沈阳理工大学机械工程学院	62	335	10.0	15.0
2	许立福	沈阳理工大学机械工程学院	68	220	9.0	11.0
3	黄树涛	沈阳理工大学机械工程学院	110	475	12.0	15.0
4	焦可茹	沈阳理工大学机械工程学院	8	28	3.0	5.0