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摘要:
建立一个更为严格地描述电子散射过程的物理模型,运用Monte Carlo方法模拟高斯分布电子束在靶体PMMA-衬底中的散射过程,研究不同曝光条件对沉积能密度的影响,获得的沉积能分布规律是:有利于降低邻近效应的高束能、薄胶层,提高曝光分辨率.
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关键词云
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文献信息
篇名 电子束曝光的Morte Carlo模拟
来源期刊 微细加工技术 学科 工学
关键词 电子束曝光 Monte Carlo方法 散射 能量沉积
年,卷(期) 2002,(1) 所属期刊栏目 电子束技术
研究方向 页码范围 1-5,17
页数 6页 分类号 TN305.7
字数 3916字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈宝钦 中国科学院微电子中心微光刻实验室 50 361 11.0 16.0
2 任黎明 中国科学院微电子中心微光刻实验室 5 63 4.0 5.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
电子束曝光
Monte Carlo方法
散射
能量沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微细加工技术
双月刊
1003-8213
43-1140/TN
大16开
湖南省长沙市
1983
chi
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
相关基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)
英文译名:National Basic Research Program of China
官方网址:http://www.973.gov.cn/
项目类型:
学科类型:农业
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