基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
论述了光刻在集成电路生产中的重要性,讨论了各种行之有效的光刻精度的保证方法,并分析了进一步提高光刻精度的方法.
推荐文章
纳米级精细线条图形的微细加工
微细加工
电子束光刻
邻近效应校正
ICP刻蚀
微细电解加工技术的发展现状
微细电解加工
脉冲电源
掩膜
铣削加工
复合电解加工
研究现状
多层冷压印光刻中超高精度对正的研究
压印光刻
结构光栅
莫尔条纹
超高精度
对正
高精度微光学器件激光直写光刻系统研究
激光直写系统
光刻
交流伺服电机
ISA
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 微细线条加工中光刻精度的保证
来源期刊 微处理机 学科 工学
关键词 光刻 光刻精度 光刻胶
年,卷(期) 2002,(2) 所属期刊栏目 大规模集成电路设计、制造与应用
研究方向 页码范围 23-26
页数 4页 分类号 TN4
字数 3520字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-2279.2002.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈东石 2 3 1.0 1.0
2 路海林 2 3 1.0 1.0
3 王冬梅 1 3 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (7)
共引文献  (22)
参考文献  (4)
节点文献
引证文献  (3)
同被引文献  (1)
二级引证文献  (1)
1998(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1999(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2000(5)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(3)
2001(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2002(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2003(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2006(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2014(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2016(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
光刻
光刻精度
光刻胶
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微处理机
双月刊
1002-2279
21-1216/TP
大16开
沈阳市皇姑区陵园街20号
1979
chi
出版文献量(篇)
3415
总下载数(次)
7
总被引数(次)
14637
论文1v1指导