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摘要:
采用直流反应磁控溅射的方法,在衬底温度为350℃的条件下溅射高纯钛靶,并在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.采用正交设计法探讨了溅射气压、溅射电流、氧氩比和溅射时间等实验条件对TiO2薄膜结构的影响.经过X射线衍射和拉曼光谱分析,制备结晶良好的锐钛矿结构TiO2薄膜的最佳实验条件为:溅射气压0.3 Pa;溅射电流0.7 A;氧氩比1 : 3;溅射时间40rmin退火温度650℃.
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关键词云
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文献信息
篇名 直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO2薄膜
来源期刊 真空与低温 学科 工学
关键词 TiO2薄膜 直流反应磁控溅射 正交设计 锐钛矿结构
年,卷(期) 2003,(4) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 221-223
页数 3页 分类号 O484|TB43
字数 2172字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-7086.2003.04.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姚宁 郑州大学物理工程学院 122 692 12.0 18.0
2 张兵临 郑州大学物理工程学院 95 608 12.0 18.0
3 鲁占灵 郑州大学物理工程学院 25 166 8.0 11.0
4 杨仕娥 郑州大学物理工程学院 68 513 12.0 18.0
5 张利伟 郑州大学物理工程学院 10 109 7.0 10.0
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研究主题发展历程
节点文献
TiO2薄膜
直流反应磁控溅射
正交设计
锐钛矿结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空与低温
双月刊
1006-7086
62-1125/O4
大16开
甘肃省兰州市94信箱
1981
chi
出版文献量(篇)
1321
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