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直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO2薄膜
直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO2薄膜
作者:
姚宁
张兵临
张利伟
杨仕娥
鲁占灵
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
TiO2薄膜
直流反应磁控溅射
正交设计
锐钛矿结构
摘要:
采用直流反应磁控溅射的方法,在衬底温度为350℃的条件下溅射高纯钛靶,并在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.采用正交设计法探讨了溅射气压、溅射电流、氧氩比和溅射时间等实验条件对TiO2薄膜结构的影响.经过X射线衍射和拉曼光谱分析,制备结晶良好的锐钛矿结构TiO2薄膜的最佳实验条件为:溅射气压0.3 Pa;溅射电流0.7 A;氧氩比1 : 3;溅射时间40rmin退火温度650℃.
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仿生制备
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TiO2膜
内容分析
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篇名
直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO2薄膜
来源期刊
真空与低温
学科
工学
关键词
TiO2薄膜
直流反应磁控溅射
正交设计
锐钛矿结构
年,卷(期)
2003,(4)
所属期刊栏目
研究报告
研究方向
页码范围
221-223
页数
3页
分类号
O484|TB43
字数
2172字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1006-7086.2003.04.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
姚宁
郑州大学物理工程学院
122
692
12.0
18.0
2
张兵临
郑州大学物理工程学院
95
608
12.0
18.0
3
鲁占灵
郑州大学物理工程学院
25
166
8.0
11.0
4
杨仕娥
郑州大学物理工程学院
68
513
12.0
18.0
5
张利伟
郑州大学物理工程学院
10
109
7.0
10.0
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(25)
二级引证文献
(24)
1986(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
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二级参考文献(1)
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二级参考文献(1)
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参考文献(1)
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直流反应磁控溅射
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
真空与低温
主办单位:
中国航天科技集团公司第五研究院510研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1006-7086
CN:
62-1125/O4
开本:
大16开
出版地:
甘肃省兰州市94信箱
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
1321
总下载数(次)
1
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