直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO2薄膜

• 作者: 姚宁 张兵临 张利伟 杨仕娥 鲁占灵
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2薄膜 直流反应磁控溅射 正交设计 锐钛矿结构
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 221-223
• 页数: 3页
• 分类号: O484|TB43
• 字数: 2172字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2003.04.008

摘要

采用直流反应磁控溅射的方法,在衬底温度为350℃的条件下溅射高纯钛靶,并在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.采用正交设计法探讨了溅射气压、溅射电流、氧氩比和溅射时间等实验条件对TiO2薄膜结构的影响.经过X射线衍射和拉曼光谱分析,制备结晶良好的锐钛矿结构TiO2薄膜的最佳实验条件为:溅射气压0.3 Pa;溅射电流0.7 A;氧氩比1 : 3;溅射时间40rmin退火温度650℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院	122	692	12.0	18.0
2	张兵临	郑州大学物理工程学院	95	608	12.0	18.0
3	鲁占灵	郑州大学物理工程学院	25	166	8.0	11.0
4	杨仕娥	郑州大学物理工程学院	68	513	12.0	18.0
5	张利伟	郑州大学物理工程学院	10	109	7.0	10.0