基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析

• 作者: 李勇 李庆祥 李玉和 訾艳阳
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 体硅工艺 电感耦合等离子体 蚀刻 微夹持器
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 微纳技术
• 页码范围: 109-113
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.2|TP241
• 字数: 1218字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2003.02.001

摘要

介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺.对微夹持器制作中的关键工艺进行分析,重点分析ICP蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响,总结导致器件失效的原因,探讨了减少失效的方法.加工过程中采用分步加工的办法控制蚀刻时间,成功的释放了宽6 μm,厚60 μm,等效长度达5 470 μm的悬臂梁型微夹持臂.研制出一种良好性能的具有S形柔性结构夹持臂的梳状静电致动微夹持器.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李勇	清华大学精密仪器与机械学系	207	2161	23.0	35.0
2	李庆祥	清华大学精密仪器与机械学系	84	2180	20.0	45.0
3	李玉和	清华大学精密仪器与机械学系	59	1638	16.0	40.0
4	訾艳阳	清华大学精密仪器与机械学系	12	166	7.0	12.0