非致冷红外焦平面阵列VO2薄膜结构和性能研究

• 作者: 崔敬忠 许旻 贺德衍
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒 薄膜 非致冷红外焦平面阵列
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 34-39
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 3642字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控反应溅射方法,通过精确地控制氧分压、基底温度等关键工艺参数,沉积出满足非致冷红外焦平面阵列使用的VO2薄膜.解决了以往其它方法制备过程中薄膜相成份较为复杂、薄膜不均匀和电阻温度系数达不到使用要求的问题.利用X射线衍射和X射线光电子谱,分析了薄膜的成分、相结构、结晶和价态情况,用原子力显微镜表征了薄膜的微观结构,分光光度计分析了薄膜在可见到红外波段(500～2 500nm)高低温透射率变化情况,对薄膜的电学性能也进行了测量和分析.结果表明VO2薄膜纯度高,结晶好,薄膜的光透射率在波长2 000nm处相变前后改变了42%,室温下的方块电阻为26.8kΩ/□,电阻温度系数为2.2%/℃.同时给出了利用X射线光电子谱中钒的V2p3/2特征峰位表征氧化钒相结构的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺德衍	兰州大学物理科学技术学院	68	559	13.0	19.0
2	崔敬忠		15	208	8.0	14.0
3	许旻	兰州大学物理科学技术学院	8	81	5.0	8.0