硅基上纳米铁颗粒薄膜的制备

• 作者: 刘华平 彭宜斌 程国安 赵勇 郑瑞廷
• 来源期刊: 现代科学仪器
• 学科: 物理学
• 关键词: 氨刻蚀 纳米铁 制备
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 纳米测量技术与仪器
• 页码范围: 11-13
• 页数: 3页
• 分类号: O437
• 字数: 1368字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-8892.2003.03.003

摘要

单晶硅基底上沉积铁膜,在不同温度下用氨气对其进行刻蚀,研究温度和铁膜厚度对铁颗粒大小和分布的影响.SEM图像显示,氨气对铁膜表面具有明显的刻蚀作用,可以使铁膜刻蚀为纳米级的颗粒;刻蚀温度对于刻蚀后铁颗粒的大小和分布有非常重要的影响,刻蚀温度越高,则得到的铁颗粒越大,分布也就越稀疏;2纳米厚的铁膜在750℃下用氨气刻蚀可以得到粒径小于100nm的铁颗粒薄膜,铁膜厚度大,则得到的铁颗粒也就越大.