电场电炉合成碳化硅晶须的研究

• 作者: 戴长虹 水丽 赵茹
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅 晶须 电场电炉
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 691-694
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 3385字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2003.03.030

摘要

给出了一种低成本合成高纯碳化硅晶须的新方法.采用电场催化技术,在较低的温度(1200～1400℃)下合成了直径为100～200nm、长度为5～50μm的碳化硅晶须.研究结果表明,以炭黑和SiO2微粉为原料在电场电炉中能够合成出高纯度、高含量的碳化硅晶须.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴长虹		10	88	6.0	9.0
2	赵茹		6	42	4.0	6.0
3	水丽		19	209	8.0	14.0