红外焦平面阵列器件非均匀性分析

• 作者: 刘上乾 周慧鑫 王炳健 程玉宝
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 红外焦平面阵列 非均匀性 产生机理 校正原理
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 光电器件
• 页码范围: 406-408
• 页数: 3页
• 分类号: TN21
• 字数: 3017字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2003.06.009

摘要

红外焦平面阵列固有的非均匀性严重地制约着其成像系统的成像质量,必须对其进行补偿校正.在深入地研究了非均匀性的各种来源及其表现形式的基础上,论述了校正原理,并提出了一种普遍适用的测量方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘上乾	西安电子科技大学技术物理学院	128	1852	22.0	36.0
2	周慧鑫	西安电子科技大学技术物理学院	53	892	16.0	28.0
3	王炳健	西安电子科技大学技术物理学院	35	600	15.0	24.0
4	程玉宝	西安电子科技大学技术物理学院	4	72	4.0	4.0