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摘要:
以界面电容分析法为主并结合XPS、AFM技术研究了醇类分子在Si(111)-H表面上形成的有机单分子膜的特性. 并探讨了嫁接反应中影响单分子膜特性的某些因素和单分子膜的稳定性及其对硅表面氧化的钝化作用. 在所选择的反应条件下,不同链长醇分子修饰的硅表面上,嫁接分子所占体积分数约为80%,平带电位约为-1.00 V(vs.SSE). 研究表明,这类膜稳定性和对硅表面氧化的钝化作用非常有限.
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文献信息
篇名 醇类在Si-H表面形成单分子膜的特性
来源期刊 应用化学 学科 化学
关键词 Si(111)-H表面,单分子膜,醇类
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 557-561
页数 5页 分类号 O646
字数 2766字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-0518.2003.06.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 力虎林 兰州大学化学化工学院 68 1402 21.0 35.0
2 孙乔玉 兰州大学化学化工学院 2 31 2.0 2.0
3 黄吉儿 兰州大学化学化工学院 2 15 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
Si(111)-H表面,单分子膜,醇类
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
应用化学
月刊
1000-0518
22-1128/O6
大16开
长春市人民大街5625号
8-184
1983
chi
出版文献量(篇)
5741
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10
总被引数(次)
46901
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