液相电化学沉积法制备高氮含量CNx薄膜及性能的研究

• 作者: 吕强 张加涛 曹传宝 朱鹤孙 李超
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: CNx 电化学沉积 阴极 导电玻璃 二氰二胺
• 年，卷（期）: 2003,（7）
• 页码范围: 1251-1255
• 页数: 5页
• 分类号: O614
• 字数: 3167字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2003.07.018

摘要

采用液相电化学沉积法, 以二氰二胺的丙酮溶液为沉积液, 以镀有ITO(铟锡氧化膜)的导电玻璃为衬底制备了CNx薄膜. 初步探讨了沉积温度和沉积电压对薄膜中氮含量的影响. 通过XPS、 FTIR光谱、 SEM和US-Vis光谱对得到的CNx薄膜的化学结合状态、结构形貌和光学性质进行了表征, 并用高电阻仪对薄膜的绝缘性进行了分析. XPS结果表明, CNx薄膜中碳氮主要以单键连接, sp3杂化的C-N键占85%. 在IR光谱中, 仅出现了C-N键和CN双键的吸收峰. SEM图谱显示CNx薄膜呈颗粒状, 粒径平均为80 nm左右. 在水浴加热条件下沉积的CNx薄膜在200～300 nm近紫外区为非线性吸收. 薄膜的电阻率随氮含量的增加而增大, 测量值在1012～1016 Ω*cm之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹传宝	北京理工大学材料科学研究中心	65	754	16.0	23.0
2	朱鹤孙	北京理工大学材料科学研究中心	81	1121	19.0	28.0
3	张加涛	北京理工大学材料科学研究中心	4	88	3.0	4.0
4	吕强	北京理工大学材料科学研究中心	13	198	9.0	13.0
5	李超	北京理工大学材料科学研究中心	16	196	7.0	13.0