类金刚石和碳氮薄膜的电化学沉积及其场发射性能研究

• 作者: 叶凡 张军 李瑞山 林洪峰 谢二庆 贺德衍
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电化学沉积 类金刚石薄膜 CNx薄膜 场致电子发射
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 3935-3939
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3645字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.08.081

摘要

利用电化学方法在室温下成功地沉积了类金刚石(DLC)薄膜和非晶CNx薄膜,并对制备条件进行了讨论.通过扫描电子显微镜、傅里叶变换红外光谱技术,分析了薄膜的表面形貌和化学结合状态.场发射测量结果表明:DLC膜和非晶CNx的开启场分别为8.8和10 V/μm;并且在23 V/μm的电场下,DLC膜和非晶CNx膜的发射电流密度分别达到10和0.37mA/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢二庆	兰州大学物理科学与技术学院	84	371	11.0	14.0
2	贺德衍	兰州大学物理科学与技术学院	68	559	13.0	19.0
3	叶凡	兰州大学物理科学与技术学院	6	21	2.0	4.0
4	张军	兰州大学物理科学与技术学院	65	414	11.0	18.0
5	林洪峰	兰州大学物理科学与技术学院	9	79	5.0	8.0
6	李瑞山	兰州大学物理科学与技术学院	1	5	1.0	1.0