超纳米金刚石薄膜场发射特性的研究

• 作者: GRUEN Dieter 丁明清
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 超纳米金刚石薄膜 场发射 微波等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 239-243
• 页数: 5页
• 分类号: TN383.1|O484.4
• 字数: 2632字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2004.04.001

摘要

超纳米金刚石(UNCD)是一种全新的纳米材料,具有许多独特性能.介绍了Si微尖和微尖阵列阴极沉积超纳米金刚石薄膜的工艺及其场发射特性.研究发现,适当的成核工艺和微波等离子体化学气相沉积工艺可在Si微尖上沉积一层光滑敷形的金刚石薄膜;沉积后阴极的电压-电流特性、发射电流的稳定性以及工作在氧气环境下的发射特性都获得明显提高.讨论了超纳米晶金刚石薄膜阴极的发射机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁明清	北京真空电子技术研究所大功率微波电真空器件技术国家重点实验室	16	102	6.0	10.0