纳米级超精密平面抛光机工件微量去除的控制方法

• 作者: 吕冰海 常敏 潘峰 袁巨龙 赵文宏
• 来源期刊: 机械工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 超精密抛光 材料去除 抛光路径长度 控制方法
• 年，卷（期）: 2003,（9）
• 所属期刊栏目: 先进制造技术
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 2165字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2333.2003.09.015

摘要

研制了一种采用专家数据库智能控制系统的纳米级超精密平面抛光机,对几种功能陶瓷进行了平面抛光实验,并分析了修整环型抛光机抛光过程中工件材料的去除函数,即材料总去除量与抛光盘转数(抛光路径长度)之间的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁巨龙	浙江工业大学机电学院	116	1467	19.0	35.0
2	赵文宏	浙江工业大学机电学院	35	279	9.0	15.0
3	吕冰海	浙江工业大学机电学院	51	710	11.0	26.0
4	常敏	浙江工业大学机电学院	6	77	6.0	6.0
5	潘峰	浙江工业大学机电学院	1	9	1.0	1.0