脉冲激光溅射及富-锆PZT薄膜的性能研究

• 作者: 彭润玲
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 物理学
• 关键词: PZT 薄 膜 铁 电 脉冲激光溅射 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2003,（z2）
• 所属期刊栏目: 测量装置
• 页码范围: 173-174
• 页数: 2页
• 分类号: O4
• 字数: 845字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3087.2003.z2.079

摘要

采用脉冲激光溅射方法将PZT/YBCO沉积在LaAlO3(LAO)基底上,所选择的烧结靶材是Pb(Zr0.94Ti0.06)O3+2%Bi2O3.沉积YBCO和PZT薄膜的基底温度分别为710℃和570℃.整体结构PZT/YBCO/LAO在600℃的基底温度下退火15min.本文通过X射线衍射分析观察了薄膜的结晶状态,利用P-V曲线估计PZT薄膜的电学性质,并测量出薄膜的介电常数与频率(ε-f)以及介电损耗与频率(tanδ-f)的关系曲线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭润玲		20	106	7.0	10.0