薄膜沉积过程的分子动力学模拟

• 作者: 严志军 严立 程东
• 来源期刊: 大连海事大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 分子动力学模拟 薄膜沉积过程 嵌入原子法 物理气相沉积
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 页码范围: 82-85,89
• 页数: 5页
• 分类号: O346.3|TB43
• 字数: 2303字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7736.2004.02.023

摘要

应用嵌入原子势作为势函数,对薄膜沉积过程进行分子动力学模拟,来模拟不同工艺条件下的成膜过程、薄膜质量及各参数变化对成膜的影响.结果表明,衬底温度越高,则原子在薄膜表面的扩散能力越强,薄膜内部的空位密度越小.但衬底温度对薄膜质量的影响只在一定范围内比较明显;原子自身携带的能量越高,则其扩散能力也越强,特别是在衬底温度较低时,这项影响越大;随着原子入射角的增大,薄膜表面的纤维状生长及阴影响应越明显,薄膜的质量则明显下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严志军	大连海事大学轮机工程学院	81	532	11.0	17.0
2	程东	大连海事大学轮机工程学院	53	357	10.0	15.0
3	严立	大连海事大学轮机工程学院	75	645	13.0	20.0